27 年的投运做好准备。平泽 P5 PH1 所需的这些光刻机来自 ASML 和佳能，其中约 20 台为 ASML 的 EUV 曝光系统。P5 PH1 将用于 1c nm 制程 DRAM 生产，将同时制造通用内存和 HBM。三星电子预计将从 2027Q2 开始为平泽 P5 PH1 安装图案化设备，届时该阶段的洁净室施工也将完成，有望在 2027 年内对产能带来有意义的贡献，满足英伟达 "Rubin"
위원회 4층 대강당에서 김종훈 진보당 울산시장 후보가 후보등록 서류를 제출하고 있다. 2026.05.15. bbs@newsis.com.
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发布时间：09:51:59
