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金宏气体：高纯二氧化碳主要应用于半导体清洗等工艺环节_蜘蛛资讯网

p;   证券日报网4月21日讯，金宏气体在接受调研者提问时表示，高纯二氧化碳主要应用于半导体清洗等工艺环节；氧化亚氮主要用于薄膜沉积、化学气相沉积等核心制程环节。

同口径相比，分别增长16.1%、18.1%。全省图书馆、文化馆、博物馆累计接待群众183.67万人次，同比增长56.63%。     

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时表示，高纯二氧化碳主要应用于半导体清洗等工艺环节；氧化亚氮主要用于薄膜沉积、化学气相沉积等核心制程环节。

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发布时间：15:48:18